Plazmonika jest nową dziedziną nauki z pogranicza optyki i fizyki ciała stałego badającą oraz wykorzystującą zjawisko powierzchniowego rezonansu plazmonowego (ang. Surface Plasmon Resonance) zachodzącego w wyniku wzbudzenia kolektywnych oscylacji ładunku na powierzchni przewodnika. W efekcie na granicy metal-dielektryk pojawia się powierzchniowa fala elektromagnetyczna (powierzchniowy plazmon-polaryton)wykazująca silne wzmocnienie pola elektromagnetycznego oraz zlokalizowanie przy powierzchni metalu, gdzie głębokość wnikania w ośrodek dielektryczny jest mniejsza od długości fali. Szczególne własności powierzchniowych plazmonów-polarytonów oraz rozwój metod wytwarzania nanostruktur metalicznych pozwoliły na powstanie nowych kierunków badań, oraz opracowanie nowych układów o dużym znaczeniu poznawczym i aplikacyjnym mających zastosowanie w takich dziedzinach wiedzy jak telekomunikacja, medycyna czy technologiach wykorzystujących odnawialne źródła energii. W naszej grupie zajmujemy się projektowaniem, modelowaniem, wytwarzaniem oraz charakteryzacją nonostruktur plazmonicznych, jak również rozwojem nowych technik wytwarzania oraz charakteryzacji tychże nanostruktur do zastosowań w szeroko pojętej fotonice, fotowoltaice, bioczujnikach i innych. Do najważniejszych osiągnięć grupy należy opracowanie technologii wytwarzania ultragładkich warstw srebra do zastosowań w układach plazmonicznych oraz wysokorozdzielczych sond do skaningowej mikroskopii bliskiego pola SNOM. Wyniki tych prac zostały opublikowane w następujących artykułach: 1. Munkhbat B., Wróbel P., Antosiewicz T.J., Shegai T., 2022, Optical constants of several multilayer transition metal dichalcogenides measured by spectroscopic ellipsometry in the 300-1700 nm range: high-index, anisotropy, and hyperbolicity, ACS Photonics, vol. 9(7), 2398–2407, 10.1021/acsphotonics.2c00433 2. Rácz P., Pápa Z., Márton I., Budai J., Wróbel P., Stefaniuk T., Prietl C., Krenn J.R., and Dombi P., 2017: Measurement of Nanoplasmonic Field Enhancement with Ultrafast Photoemission, Nano Letters, vol. 17 (2) , pp. 1181–1186 , 10.1021/acs.nanolett.6b04893 3. Wróbel P., Stefaniuk T., Trzcinski M., Wronkowska A.A., Wronkowski A., Szoplik T., 2015: Ge wetting layer increases ohmic plasmon losses in ag film due to segregation, ACS Applied Materials & Interfaces, vol. 7 (17) , pp. 8999–9005 , 10.1021/acsami.5b01471 4. Wróbel P., Stefaniuk T., Antosiewicz T.J., Libura A., Nowak G., Wejrzanowski T., Andrzejczuk M., Kurzydłowski K.J., Jedrzejewski K., and Szoplik T., 2012: Fabrication of corrugated Ge-doped silica fibers, Optics Express, vol. 20 (13) , pp. 14508-14513 , 10.1364/OE.20.014508 Obecne badania dotyczą
| |